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PHI 5000 Versaprobe II X射線光電子能譜儀
PHI 5000 Versaprobe II X射線光電子能譜儀

PHI 5000 Versaprobe II X射線光電(dian)(dian)子能(neng)譜(pu)儀是材料科學和發展的(de)(de)領域中Z廣泛(fan)使(shi)用的(de)(de)表面分析技(ji)術。其原(yuan)理是利用X射線束(一般會(hui)使(shi)鋁陽極或鎂陽極)作(zuo)為入射源,照(zhao)射在(zai)樣(yang)品表面導致讓光電(dian)(dian)子從(cong)原(yuan)子的(de)(de)核心層被激發出(chu)。根據測(ce)得的(de)(de)光電(dian)(dian)子所發出(chu)的(de)(de)電(dian)(dian)子動能(neng),再依(yi)照(zhao)能(neng)量守(shou)恒定律就可以(yi)知(zhi)道(dao)電(dian)(dian)子的(de)(de)結合能(neng),從(cong)而也(ye)就可知(zhi)道(dao)樣(yang)品表面是何物(wu)質。

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賽默飛 EscaLab 250Xi X射線光電子能譜儀
賽默飛 EscaLab 250Xi X射線光電子能譜儀

賽默飛(fei) EscaLab 250Xi X射線(xian)光電子能譜儀是一臺多功能高性能的表(biao)面分析儀器(qi),它可(ke)以(yi)用(yong)于研(yan)究各種固體(ti)材(cai)(cai)料(liao)樣品表(biao)面(1-10nm厚(hou)度(du))的元(yuan)素種類、化(hua)(hua)學價態以(yi)及相對含量。結(jie)合離子刻蝕(shi)技術還可(ke)以(yi)獲(huo)(huo)得元(yuan)素及化(hua)(hua)學態深度(du)分布信(xin)息;通過成像(xiang)技術可(ke)以(yi)獲(huo)(huo)得元(yuan)素及化(hua)(hua)學態的面分布信(xin)息;利用(yong)微聚(ju)焦X射線(xian)源或電子束可(ke)以(yi)獲(huo)(huo)得微區表(biao)面信(xin)息。在(zai)金屬、玻璃、高分子、半(ban)導體(ti)、納米材(cai)(cai)料(liao)、生物(wu)材(cai)(cai)料(liao)以(yi)及催化(hua)(hua)等(deng)領(ling)域有廣泛應用(yong)。

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PHI Quantera II X射線光電子能譜儀
PHI Quantera II X射線光電子能譜儀

PHI Quantera II X射線(xian)光(guang)電子能譜(pu)儀(yi)是Ulvac-Phi公司以在業(ye)界(jie)獲得非常成績的(de)(de)Quantum 2000和(he)Quantera SXM之上延申后(hou)所(suo)研發的(de)(de)XPS分(fen)析(xi)儀(yi)器(qi),其革(ge)命性超卓技術(shu)(shu)包括有(you):一個*微集中掃描的(de)(de)X射線(xian)來(lai)源,的(de)(de)雙光(guang)束(shu)(shu)的(de)(de)電荷中和(he)技術(shu)(shu),在極低電壓下仍可保持(chi)高性能的(de)(de)離子束(shu)(shu)源以進(jin)行XPS的(de)(de)深度(du)分(fen)析(xi)

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賽默飛 Nexsa™ X 射線光電子能譜儀 XPS
賽默飛 Nexsa™ X 射線光電子能譜儀 XPS

賽默(mo)飛 Nexsa™ X 射線光電子(zi)能譜(pu)儀 (XPS) 系統能提供全自動、高(gao)通量(liang)的多(duo)技術(shu)分(fen)析(xi),并(bing)可保持研究級(ji)結果的高(gao)質量(liang)水平。ISS、UPS、REELS、拉曼(man)等多(duo)種分(fen)析(xi)技術(shu)集(ji)于(yu)一身,用(yong)戶因此(ci)能夠進行真正意義上的相關(guan)性分(fen)析(xi),從而為微電子(zi)、超薄膜、納(na)米技術(shu)開(kai)發(fa)以及許(xu)多(duo)其他應用(yong)進一步取得進展釋(shi)放潛能。

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賽默飛 K-Alpha+ X射線光電子能譜儀系統
賽默飛 K-Alpha+ X射線光電子能譜儀系統

賽默飛(fei) K-Alpha+ X射線光電子(zi)能譜(pu)儀系統(tong)是(shi)一款(kuan)*集(ji)成的(de)X射線光電子(zi)能譜(pu)。獲獎的(de)版K-Alpha平(ping)臺特(te)征(zheng)光譜(pu)性能顯著提高,提供更高計數率和(he)更快分(fen)析時間,改善(shan)化學探測能力。

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PHI X-tool 全自動掃描型微區探針能譜儀
PHI X-tool 全自動掃描型微區探針能譜儀

PHI X-tool 全自(zi)動(dong)掃(sao)描型(xing)微區探針能譜儀是一款操作簡單(dan),同時具備高效高能的(de)XPS。其秉承PHI-XPS獨有的(de)掃(sao)描聚焦X-ray系統,可通(tong)過單(dan)色化石英晶體叫X-ray直(zhi)接聚焦至20μm。

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