賽默(mo)飛 MICROLAB 350場發(fa)射(she)俄歇電子(zi)(zi)譜(pu)(pu)儀(yi)是一款高(gao)性能的,具有高(gao)靈敏度和(he)高(gao)能量(liang)分(fen)辨率(lv)(lv)掃描(miao)俄歇電子(zi)(zi)能譜(pu)(pu)儀(yi)(AES)。 SEM分(fen)辨率(lv)(lv)7納(na)米(mi)和(he)掃描(miao)俄歇映射(she)(SAM)分(fen)辨率(lv)(lv)12納(na)米(mi)。
PHI 700Xi 俄(e)歇電(dian)子能(neng)譜(pu)儀掃描俄(e)歇納米探針(zhen)提(ti)供高性(xing)能(neng)的(de)(de)俄(e)歇(AES)頻譜(pu)分(fen)析,俄(e)歇成像(xiang)和濺射深度(du)分(fen)析的(de)(de)復合材料包(bao)括:納米材料,催化劑(ji),金屬和電(dian)子設備。維(wei)持基于PHI CMA的(de)(de)核心(xin)俄(e)歇儀器性(xing)能(neng),和響(xiang)應(ying)了用戶所(suo)要(yao)求以提(ti)高二次電(dian)子(SE)成像(xiang)性(xing)能(neng)和高能(neng)量分(fen)辨率光譜(pu)。
PHI 4700 AES俄歇分析(xi)(xi)儀(yi)在開(kai)發(fa)新材料(liao)及(ji)薄膜制程(cheng)上(shang),為(wei)了有(you)助于了解材料(liao)組(zu)成間的相互作用(yong)及(ji)解決(jue)工藝流程(cheng)的問題(ti),材料(liao)組(zu)成或薄膜迭層的深度(du)分析(xi)(xi)是非常重(zhong)要的。