賽默飛 Nexsa™ X 射線光電子能譜儀 (XPS) 系統能提供全自動、高通量的多技術分析，并可保持研究級結果的高質量水平。ISS、UPS、REELS、拉曼等多種分析技術集于一身，用戶因此能夠進行真正意義上的相關性分析，從而為微電子、超薄膜、納米技術開發以及許多其他應用進一步取得進展釋放潛能。
賽默飛 Nexsa™ X 射線光電子能譜儀 (XPS) 具有靈活性，可最大限度地發揮材料潛能。在使結果保持研究級質量水平的同時，以多重整合技術選項的形式提供靈活性，從而實現真正意義上的相關性數據分析和高通量。
標準化功能催生強大性能：
絕緣體分析
高性能光譜
深度剖析
多技術整合
雙模式離子源，使深度剖析功能得到擴展
用于 ARXPS 測量的傾斜模塊
用于儀器控制、數據處理和報告的 Avantage 軟件
小光斑分析
可選的升級：可將任何全自動化集成技術添加到您的分析中。觸動按鈕即可運行。
ISS：在離子散射光譜技術中，一束離子可被某物體表面散射
UPS：紫外光電子能譜是指對吸收了紫外光子的分子所發射的光電子動能譜進行測量，以確定化合價區域中的分子軌道能量
拉曼：能譜技術在化學領域被用于提供結構指紋
REELS：反射電子能量損失譜
借助 SnapMap 的光學視圖，聚焦于樣品特征。光學視圖可以幫助您快速定位感興趣區域，同時生成*聚焦的 XPS 圖像，以進一步定義您的實驗。
X 射線照射樣品上的一個小區域。
收集來自這一小區域的光電子并將其聚焦于分析儀
隨著鏡臺的移動，不斷采集能譜
在整個數據采集過程中監測鏡臺位置，這些位置用來生成 SnapMap