FEI Vion Plasma 聚焦離(li)子(zi)束系統(FIB)能使(shi)您的實(shi)驗室實(shi)力大增,因為只需這一臺使(shi)用簡便的設備(bei)便可獲(huo)得yi流(liu)的光刻和成像性能。采用等離(li)子(zi)源技術的 Vion PFIB 擁(yong)有比傳(chuan)統鎵 FIB 儀器(qi)更高的吞(tun)吐量,具(ju)體來說(shuo),位(wei)置特異性切(qie)片分析、大面(mian)積光刻和樣本制備(bei)的速(su)度(du)提高了 20 倍以上(shang)