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　　在過去的這些年中，我們不斷與先進的等離子體鍍層研究組織進行跨領域合作，使得輝光光譜儀性能得到了大幅度提升。如今，輝光放電技術已能夠很好地用于表征描述材料的特性，同時行業也建立了相應的ISO標準。

 

　　輝光光譜儀可以用于薄/厚膜中的深度剖析：元素的濃度、變化趨勢以及鍍層厚度，它的測量深度可以從表面幾納米達到150微米以上。同時，輝光光譜儀還具備很好的深度分辨率，可達1nm以下。這使得大家在進行薄膜分析時，可以很清晰地看到每一層元素的變化及界面的信息。這將有助于我們獲取更多樣品信息，從而改進生產工藝、提高產品質量等。

 

　　如今，輝光光譜儀已被廣泛應用于各個研發、分析及生產領域，如納米尺度及納米尺度以上鍍層的新材料發展、涂漆車體上腐蝕的起源研究、稀有金屬的成分評估、工業上監控光伏器件的生產、硬盤或LED的生產控制以及鋰電池改進等。

 

　　主要用途：

　　1、導電材料和非導電材料的基體、鍍層（涂層）中的化學元素含量分析；

　　2、熱處理工件（滲碳、滲氮）等的元素深度定量分析；

　　3、導電材料表面覆蓋有一層或多層導電或不導電鍍層（涂層）中化學元素的分析；

　　4、非導體材料表面覆蓋有一層或多層導電或不導電鍍層（涂層）中化學元素的分析。